製品詳細
各膜エッチング液
Cuシード層エッチング液Pure Etch C203・C210
Cuめっき/Cuシード構造に対して、Cuめっき配線やバンプへのダメージ少なく、
Cuシード層をエッチングします。
キーワード:ウェットエッチング、銅、めっき、シード層、選択セミアディティブ法
製品の特長
- Cuめっきの細りが少ないです。
- Cuの表面荒れが少ないです。
- さまざまなシード層に適用可能です。(無電解銅めっき~スパッタ銅)
- Dip方式、Spray方式、Spin方式と多様な方式に対応しています。